亚洲欧美中文字幕先锋,免费无码中文字幕A级毛片,欧美日韩国产一级片免费网站,久久精品国产亚洲蜜臀av大全

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設(shè)計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調(diào)節(jié)范圍，可適應(yīng)多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設(shè)備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設(shè)備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作...

多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設(shè)備。可在高純氬氣保護下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設(shè)備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設(shè)備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統(tǒng)。試樣以三種方式移動：平面旋轉(zhuǎn)、傾斜旋轉(zhuǎn)和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯(lián)、表面蝕刻等多個...

熱噴涂鍍膜設(shè)備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi)，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復(fù)雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設(shè)備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現(xiàn)有機材料的蒸鍍，可以滿足發(fā)光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設(shè)備。原理：基于電阻蒸發(fā)原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復(fù)合分子泵，保證電鍍時蒸發(fā)源和...

雙溫區(qū)管式爐采用精密鋼板制作，表面靜電噴塑，外形美觀。工作室由剛玉管制成，加熱元件根據(jù)溫度需要匹配（硅碳棒或硅鉬棒），保溫材料為輕質(zhì)保溫保溫加硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制可對多個程序段進行編程控制產(chǎn)品的燒成過程，并具有過流、限流、過熱等保護功能。雙溫區(qū)管式爐主要用于高校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的開發(fā)、晶體硅襯底涂層、金屬材料擴散焊和真空或氣氛中熱處理等設(shè)備必須按照操作規(guī)范使用，還應(yīng)注意以下幾點：1、檢查...

立式真空水淬爐是源于鈦合金材料在航天航空領(lǐng)域大量使用而研發(fā)制造的，主要針對α+β型鈦合金材料真空加熱之后快速淬火(固溶處理)的一種新型熱處理設(shè)備。大家都知道，鈦的密度為4.51g/cm3，鈦合金很輕，如Ti-6Al-4V的密度僅為4.42g/cm3，鈦合金材料經(jīng)固溶處理再時效強化后的比強度遠高于高強度鋁合金、鎂合金、高溫合金和高強度結(jié)構(gòu)鋼，甚至與超高強度鋼相當，因此被廣泛應(yīng)用于航空航天、船舶、生物醫(yī)用、化工、汽車等領(lǐng)域。如美國F-22戰(zhàn)機上鈦合金的用量已高達41%，而鋁合金和...

無論是大氣(常壓)等離子清洗機，還是真空(低壓)等離子清洗機，在對材料進行表面改性的時候都會通入工藝氣體，如無水無油的干凈壓縮空氣，有一定純度要求的氮氣、氧氣、氬氣等等離子清洗機中通入的普通工藝氣體要想轉(zhuǎn)化為等離子體，每個粒子大約需要：：（1~30eV（1eV=1.6022×10-19焦耳）的能量，其中的粒子具有較高的活性和能量密度。但要注意的是，電離的氣體不一定是就是等離子體，雖然等離子體和普通氣體存在一些共同特點，如它們均滿足氣體狀態(tài)方程，但它們卻有截然不同的性質(zhì)，PCE...